substrate:UV Fused Silica
Fandeferana dimensional:-0.1mm
Fandeferana hateviny:± 0.05mm
fisaka ambonin'ny tany:1(0.5)@632.8nm
kalitaon'ny Surface:40/20
sisiny:tany, 0.3mm max. Bevel ny sakany feno
Aperture mazava:90%
Foibe:<1'
coating:Rabs<0.25%@Design halavan'ny onjam
Fehezan'ny fahasimbana:532nm: 10J/cm², 10ns pulse
1064nm: 10J/cm², 10ns pulse